国内刊号:11-2201/X
国际刊号:1000-6923
发布日期:
作者:常涛, 鲁仙, 吴文芳, 丁磊, 赵志淼, 张饮江
单位:1. 上海海洋大学海洋科学与生态环境学院, 上海 201306;2. 同济大学环境科学与工程学院污染控制与资源化研究国家重点实验室, 上海 200092;3. 安徽工业大学生物膜法水质净化及利用技术教育部工程研究中心, 安徽 马鞍山 243032
关键词:氯霉素,紫外,过硫酸盐,臭氧,降解机理
基金:国家自然科学基金(52000128);上海市青年科技英才扬帆计划(2019YF1990);生物膜法水质净化及利用技术教育部工程研究中心项目(BWPU2021KF04)
采用UV/O3/PS工艺对氯霉素进行降解实验,研究了UV/O3/PS联合工艺、UV/PS、O3/PS及UV/O3工艺对CAP的降解特性,分析了反应体系中主要活性自由基对氯霉素降解的贡献,分别考察了PS浓度、O3浓度、pH值以及常见无机阴离子和天然有机物对降解的影响,探究了CAP的降解路径及消毒副产物的生成潜能,并计算了UV/O3/PS工艺的能耗大小.结果表明,UV/O3/PS联合工艺在60min时对氯霉素的去除率为90.41%;1O2、HO·和SO4·-为反应体系中3种主要的活性物种,其对氯霉素降解的贡献率依次为53.85%、25.64%和12.82%;PS和O3浓度的增加有利于CAP的降解,碱性条件可促进CAP的降解,共存的Cl-、HCO3-及腐殖酸对CAP降解存在抑制作用;氯霉素在UV/O3/PS反应体系中降解机理主要包括羟基化、氨基氧化、C-N键断裂等步骤;CAP预氧化处理后其三氯甲烷和三氯乙腈的生成潜能显著增加,三氯甲烷生成潜能由30.35μg/L增加至48.08μg/L三氯乙腈生成潜能由12.31μg/L增长至20.97μg/L,能耗分析结果表明UV/O3/PS工艺具有较好的综合效益.
来源:2025年第5期
《中国环境科学》期刊编辑部