中国环境科学

作者：王营营, 刘娅, 马德方, 史伟业, 高宝玉

单位：1. 山东大学环境科学与工程学院, 山东 青岛 266237;2. 山东省第一地质矿产勘查院, 山东 济南 250001

关键词：真空紫外/氯,磺胺类抗生素,降解,消毒副产物,毒性风险值

基金：国家自然科学基金资助项目(51808316)

考察了VUV/UV/NaClO工艺对磺胺甲噁唑(SMX)的去除效能及消毒副产物卤乙酸(HAAs)的生成情况,分析了光源、共存阴离子和溶解性有机质的影响.再生水中常见的阴离子(溴离子、硫酸根)、低浓度(£3mg/L,以TOC计)多糖和蛋白对SMX的降解无显著影响;但高浓度(30mg/L)蛋白使SMX的降解率由100%降为53.5%,腐殖酸浓度从0提高到30mg/L,30min后SMX均能完全降解,但是SMX降解速率下降了68%,体系的矿化去除率降低了43.9%.共存溴离子和腐植酸极大地促进了HAAs的生成,且随浓度的增加而增加.VUV/UV/NaClO与UV/NaClO相比,对SMX的降解效率无显著差别,但矿化去除率提升了44%,且使HAAs生成量降低了98%,总毒性降低了96.5%.由此可见,VUV/UV/NaClO工艺有望成为比UV/NaClO更为优越的消毒工艺应用到实际再生水处理中.

来源：2023年第S1期

《中国环境科学》期刊编辑部

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